晶圓代工廠聯電昨（16）日通過提前啟動明年資本支出執行預算256.48億元，以加快建置28奈米製程產能腳步及南科P5廠無塵室興建。今年聯電資本支出仍維持在11億美元（約新台幣330億元）到13億美元（約新台幣390億元)。
聯電財務長劉啟東表示，通過256.48億元的預算，將於明年支出，對今年資本支出並無影響。
不過因設備必須提前於一年前開始訂購，因此董事會昨天通過執行預算，以利採購作業。
劉啟東強調，今年聯電資本支出仍維持在11億到13億美元。至於明年的資本支出總金額，仍將於年底或明年初董事會核定後公布。聯電今年首季實際資本支出不到3億美元，進步緩慢，不過，昨天董事會通過上述資本支出預算，將會加快腳步。
聯電董事長洪嘉聰日前主持聯電股東會時表示，聯電28奈米製程落後，但今年製程技術及營運漸入佳境，絕對不會讓股東投資血本無歸。聯電28奈米良率逐步提升，今年下半年將迎頭趕上，而且會直接切入14奈米，預定2015年試產，縮短和台積電競爭差距。
聯電執行長顏博文表示，聯電導入28奈米製程，重心將放在其中生產手機晶片效能較佳的高介電常數金屬閘極（HKMG）製程，預估今年第4季放量；目前28奈米營收占比約1%，全年將逾5%。
劉啟東強調，聯電通過256.48億元的資本支出預算，將會集中於28奈米產能擴充及14奈米產能有效化，通過預算後，聯電仍會做現金流量規劃。
劉啟東指出，聯電延續2012年與IBM的技術授權關係，除加入IBM 技術開發聯盟，共同開發10奈米製程技術外，並藉由IBM的技術支援，持續提升內部自行研發的14奈米技術。
聯電對自家財務規劃相當自豪，近期相繼有相關動作，包括出售轉投資瀾起科技股權給浦東科技，估計將大賺30多億元，還處分晶電股票，也獲利4.16億元，資金全數投入衝刺28奈米先進製程和14奈米研發，展現急起直追的企圖。
外資昨天轉為賣超4,739張，使聯電收盤價小跌0.2元，以14.7元作收。
市場搶貨潮 將有解
【記者簡永祥/台北報導】聯電董事會通過提前啟動明年資本支出預算256.48億元，全力衝刺28奈米產能，雖然相關資本支出將放在明年，但也等於宣告28奈米製程已正式鳴槍衝刺。
據了解，聯電28奈米製程落後台積電長達三年多，當初準備月產1.5萬片，本月起聯發科等積極導入Poly-Sion製程，產能利用率才初見拉升。
聯電執行長顏博文表示，聯電下半年重心將放在生產手機晶片效能較佳的高介電常數金屬閘極（HKMG）製程，目前幾乎是台積電獨霸的局面，聯電因製程是全球第二家與台積電同時採用HKMG 後閘極（Gate-Last）的晶圓代工廠；一旦良率拉升，預料將有助紓解目前市場上28奈米產能大排長龍的窘境。
設備廠透露，聯電初期仍會集中先填補目前月產1.5萬片設備，讓產能有效發揮，才會再擴增機台。
稍早聯電28奈米HKMG製程已先後獲得博通、聯發科及高通等認證通過，凸顯聯電28奈米製程技術已打通瓶頸，如今董事會決定通過相關預算，也象徵聯電要加速產能布建，分食28奈米訂單塞爆的商機。
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